等離子表面處理——等離子體脈沖CVD
PICVD(等離子體脈沖化學(xué)氣相沉積)已經(jīng)發(fā)展很多年了。主要用于光學(xué)涂層。該工藝?yán)昧嗣}沖微波等離子體，允許在脈沖間隔期間更新處理氣體。典型的脈沖重復(fù)率是100s-1。
PICVD工藝的主要優(yōu)點(diǎn)是：
①具有高分辨率的連續(xù)的折射率分布并能利用摻雜劑氣流的變化進(jìn)行良好的控制;
②由于大的質(zhì)量流和高的處理氣體利用率而具有高達(dá)幾μm·min-1的沉積率;
③由于非常純的反應(yīng)氣體而能獲得高純度沉積物;
④該方法制備的涂層具有極好的光學(xué)性能穩(wěn)定性;
⑤基體的低熱負(fù)載允許象塑料眼科鏡片這樣的對溫度敏感的材料使用涂層。
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