大氣等離子體處理機(jī)對HDI，柔性和剛性電路板制造進(jìn)行了去污和回蝕作業(yè)。它結(jié)合了市場領(lǐng)先的等離子技術(shù)，結(jié)合基于多年經(jīng)驗的應(yīng)用特定開發(fā)。

    可擴(kuò)展等離子體系統(tǒng)，可以從4到8個等離子體電池升級，隨著生產(chǎn)要求和操作而增長，是處理低容量，高混合物產(chǎn)品的中小型企業(yè)或研發(fā)機(jī)構(gòu)的理想選擇，旨在滿足不斷變化的生產(chǎn)環(huán)境，等離子體系統(tǒng)在其前身PCB-800/1600及其同時代系統(tǒng)之間保持了完美的平衡。該室仍然是純粹的PCB系列”的尺寸和功能，但其他一切都已升級系列技術(shù) ，從氣體分配和泵包到用戶界面和控制參數(shù)。通過共享類似的組件和接口，可以更輕松地提高等離子體處理PCB面板的容量。系統(tǒng)可以處理低容量，高混合度的產(chǎn)品，是中小型企業(yè)或研發(fā)機(jī)構(gòu)的理想選擇。隨著生產(chǎn)量的增加，系統(tǒng)可以從四個等離子體電池升級到*多八個等離子體電池。

    與其他系列等離子體系統(tǒng)類似，是獨立的，需要*小的占地面積。底盤裝有等離子體室，控制電子設(shè)備，40 kHz射頻發(fā)生器，泵/鼓風(fēng)機(jī)組合和自動匹配網(wǎng)絡(luò)?？梢詮那懊姘寤蚝竺姘暹M(jìn)行維護(hù)檢修。

    等離子體室由優(yōu)質(zhì)鋁制成，具有出色的耐用性。該腔室設(shè)計用于在單獨的等離子體電池中處理PCB面板，以提供具有優(yōu)異處理均勻性的高蝕刻速率。

 等離子體處理系統(tǒng)

    大氣等離子體處理機(jī)使用單步過程提供了柔性材料兩側(cè)的業(yè)界領(lǐng)先的等離子體處理均勻性。它是一個獨立的真空等離子體處理系統(tǒng)，具有節(jié)省空間的緊湊型底盤，具有兩個易于訪問的前裝載門。雙機(jī)架等離子體室可在一個周期內(nèi)容納多達(dá)十八個20“x 24”面板，每小時可達(dá)80-120個單位（UPH）。FlexVIA系統(tǒng)的先進(jìn)的水平電極設(shè)計，集成了機(jī)架，可提供等離子體處理均勻性的*佳材料對準(zhǔn)。它也不需要使用昂貴的氟氣。相反，利用環(huán)境友好且具有成本效益的氣體等離子體溶液如氬氣（Ar）和氧氣（O2）。

    等離子體處理系統(tǒng)其先進(jìn)的水平電極設(shè)計，集成了機(jī)架，提供了*佳的材料對準(zhǔn)，而雙機(jī)架式機(jī)箱可以在一個周期內(nèi)容納多達(dá)三十個20“x 24”的面板，使每小時可達(dá)140-200單位。是一種完全獨立的真空處理系統(tǒng)，具有集成的卷對卷材料處理，用于生產(chǎn)PCB制造環(huán)境。等離子體處理均勻性是表面激活，去除和回蝕應(yīng)用中柔性電路板制造技術(shù)的關(guān)鍵操作特性。集成的卷對卷材料處理系統(tǒng)確保精確控制薄至25微米的基材的輥速度，張力和邊緣引導(dǎo)?；诠鈱W(xué)的邊緣引導(dǎo)檢測允許在倒帶操作期間可靠的控制。底板加載簡單，可通過四個門輕松訪問裝載部分。有三種配置可滿足各種生產(chǎn)需求。UV涂層或者塑料片材進(jìn)行一定的物理化學(xué)改性，提高表面附著力，使它能和普通紙張一樣容易粘結(jié)。使用常規(guī)的水性冷膠就能使覆膜或者上光的紙板在糊盒機(jī)上得到可靠的粘合，完全不再需要局部覆膜、局部上光、表面打磨切線等工序，同樣也不再需要因為不同的紙板而更換不同的特殊膠水等。
通過等離子表面處理后，不僅可以增強(qiáng)其對膠水的適用性，不再依賴特種膠水就能實現(xiàn)高品質(zhì)粘接。而且改善了表面的鋪展性能，防止氣泡等的產(chǎn)生。而*為重要的是經(jīng)過常壓等離子處理，可以讓紙盒制造商以更低的成本、更高的效率得到品質(zhì)更為保證的高檔產(chǎn)品。等離子設(shè)備中頻，射頻等離子處理機(jī)型；處理方式有水平、垂直、卷式RTR、轉(zhuǎn)鼓等真空等離子處理設(shè)備和噴射、準(zhǔn)輝光、隧道、水平線多種常壓等離子處理設(shè)備；
等離子處理機(jī)具有高穩(wěn)定性、高性價比、高均勻性等諸多優(yōu)點。
特色鮮明的處理腔體形狀和電極結(jié)構(gòu)可以滿足不同形狀、不同材質(zhì)的表面處理要求，包括薄膜、織物、零件、粉體和顆粒等。
低溫等離子體表面處理設(shè)備、水平式低溫等離子體表面處理設(shè)備、卷對卷式低溫等離子體表面處理設(shè)備、以及大氣壓輝光放電表面處理設(shè)備