實驗中當(dāng)我們想要對各種材料的表面做清洗活化腐蝕沉積或者聚合等操作的時候，必不可少的就是一臺低溫等離子處理設(shè)備，而作為實驗室經(jīng)常使用的高精尖設(shè)備，如果使用低溫等離子設(shè)備的操作不當(dāng)很有可能導(dǎo)致設(shè)備損壞或者運(yùn)行結(jié)果受到影響，低溫等離子清洗設(shè)備使用的注意事項。




一，低溫等離子清洗設(shè)備在運(yùn)行的時候?qū)τ陔娫吹囊笫?span>220V的交流電頻率為50HZ的電源，應(yīng)該在開啟設(shè)備之前做好電源的連接和檢查工作，設(shè)備運(yùn)行之后應(yīng)該發(fā)出的是平穩(wěn)的運(yùn)轉(zhuǎn)聲，而且通常會有綠色的指示燈常亮來顯示設(shè)備正常運(yùn)行，如果出現(xiàn)黃色故障燈亮起，則要停止運(yùn)行進(jìn)行排休檢查。


二，在使用三和波達(dá)低溫等離子清洗設(shè)備的時候，應(yīng)該特別注意紅色的警示燈，通常設(shè)備運(yùn)行出現(xiàn)問題或者抖動頻率過快的情況下紅色燈會常亮，這個時候應(yīng)該馬上按下復(fù)位鍵觀察設(shè)備，如果設(shè)備依然出現(xiàn)異常則應(yīng)該停止設(shè)備的運(yùn)行，然后進(jìn)行故障的排查，以避免設(shè)備出現(xiàn)損壞。


三，在使用低溫等離子清洗設(shè)備的時候要定期清洗，而清洗的時候必須要先斷開電源，然后再打開真空倉和電控箱，而且注意按照說明書上要求的規(guī)范清洗，除此之外現(xiàn)在很多低溫等離子設(shè)備的真空倉都是外置環(huán)形電級所以不容易出現(xiàn)腔內(nèi)污染。



綜上所訴可知：等離子清洗技術(shù)適用于對物體表面的油，水及微粒等輕度油污進(jìn)行清洗，而且利于“速戰(zhàn)速決”的在線或批量清洗。以上提到的幾點(diǎn)基本上是所有類型的低溫等離子清洗設(shè)備的使用注意事項，而隨著設(shè)備的種類日漸繁多，操作人員在使用前應(yīng)該詳細(xì)閱讀并了解使用說明才行，很多低溫等離子設(shè)備還需要操作人員受到上崗培訓(xùn)才行。而且隨著很多低溫等離子設(shè)備開始帶有自潔功能，設(shè)備的日常保養(yǎng)也變得更加簡潔。等離子清洗機(jī)與常規(guī)濕式清洗比較的主要優(yōu)點(diǎn)是：

①將氧作為清洗劑，它價格低也不需要進(jìn)行處理;

②可連續(xù)供應(yīng)新鮮的處理氣體，不存在清洗劑的老化問題;

③封閉室式操作不要求特別的職業(yè)性安全措麓;

④因為不需要干燥，故能耗低;

⑤造成的廢料僅僅是少量的象CO2和H2O氣這樣的氣體。

因注意到的很重要的一點(diǎn)是無任何濺射發(fā)生。有機(jī)物的清洗僅僅由它同活性氧的化學(xué)反應(yīng)來實現(xiàn)。碳?xì)浠衔锏逆湻謳撞疥懤m(xù)被破壞，*終形成的CO2和H2O氣體被真空泵抽走。不與處理氣體反應(yīng)的無機(jī)材料當(dāng)然不會被清除。等離子處理器的主要性能
1.噴射出的等離子體流為中性，不帶電 ，可以對各種高分子、金屬、半導(dǎo)體、橡膠、PCB電路板等材料進(jìn)行表面處理。 2.等離子表面處理器處理后去除了碳化氫類污物，如油脂，輔助添加劑，有利于粘結(jié)、性能持久穩(wěn)定，保持時間長。 3.溫度低、適合運(yùn)用于那些表面材料對溫度敏感的制品。 4.不需要箱體，可以直接安裝在生產(chǎn)線上，在線運(yùn)行處理。相對與磨邊機(jī)的反向運(yùn)行，大大提高了工作效率。 5.只消耗空氣和電，因此運(yùn)行成本低，操作更安全。 6.干式方法處理無污染，無廢水，符合環(huán)保要求；并且替代了傳統(tǒng)的磨邊機(jī)，杜絕了紙粉紙毛對環(huán)境及設(shè)備的影響。 7.經(jīng)等離子表面處理器處理后，可采用普通膠水來粘盒，降低了生產(chǎn)成本。