真空表面處理機相關(guān)的安全預防措施
1、關(guān)閉小型真空等離子表面處理機設(shè)備電源開關(guān)，切斷總電源保護器。
2、關(guān)閉所有的氣體。
3、準備必要的工具包。
4、是維護保養(yǎng)真空腔和真空發(fā)生系統(tǒng)：
（1）真空腔是加工工件的工作區(qū)域，使用一定時間后，空腔內(nèi)會殘留部分污物，這些污物附著在電極板和空腔壁上。
清洗方法：連續(xù)使用一定時間后，用無塵布(紙)沾酒精清洗所有的電極板和腔壁，保持腔壁清潔。
（2）觀察窗是指工作人員在工作時觀察真空等離子表面處理機腔體內(nèi)放電的用的，在使用了氣體蝕刻之后，會造成觀察窗的表面發(fā)生微蝕，使觀察窗變得模糊。等離子處理設(shè)備是一種高技術(shù)的設(shè)備，能夠在微觀尺度上進行清洗和表面改性。其原理是借助于等離子體反應生成活性氣體，并使這些氣體與待處理物表面發(fā)生碰撞作用，從而實現(xiàn)對物體表面的清洗和改性。以下將詳細介紹等離子處理設(shè)備的原理。
一、等離子狀態(tài)
等離子狀態(tài)是常見物質(zhì)狀態(tài)之一，類似于固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)以及波動態(tài)。等離子體是由氣體或者液體中的分子或原子組成的高溫、高能帶電粒子集合體，其特點之一是其具有自激勵性質(zhì)，即在一定情況下，它們能夠釋放出足夠的能量來促使更多原子或分子進入等離子態(tài)。
二、等離子處理設(shè)備的基本原理
等離子處理設(shè)備利用等離子變化能夠產(chǎn)生的大量質(zhì)子、氧離子、氮離子、硅離子等帶異性質(zhì)的粒子，并加速這些粒子，將它們引導到待處理物表面，這些粒子與物體表面的原子或者分子碰撞后，會釋放出巨大的能量，這個過程稱為離子表面交互反應過程。這些反應產(chǎn)生的碰撞粒子的能量所激發(fā)物體表面分子的原子層具有不同的效應，如化學反應、物理反應和結(jié)構(gòu)變化等。
三、等離子處理設(shè)備的操作過程
等離子處理設(shè)備由等離子發(fā)生器、等離子噴霧裝置、真空泵系統(tǒng)和控制系統(tǒng)等部分組成。其工作流程包括以下幾個步驟：
1.真空抽除：將待處理物置于等離子處理室中，開啟泵系統(tǒng)，將氣體排出，形成真空環(huán)境。
2.等離子振蕩：通過高頻電源產(chǎn)生感應電場，將氣體激勵起來，從而產(chǎn)生等離子體。
3.等離子擴散：等離子體向外擴散，與待處理物接觸并發(fā)生離子表面交互反應，從而實現(xiàn)對物體的清洗和改性。
4.進料：對待處理的物體進行進料，并使其暴露在等離子體前緣處。
5.等離子處理：對待處理的物體進行等離子表面交互反應，從而實現(xiàn)清洗和改性的目的。
6.結(jié)束處理：當處理完成后，要將氣體排出，并關(guān)閉設(shè)備。
四、等離子處理設(shè)備的應用
等離子處理設(shè)備已廣泛應用于各種領(lǐng)域。在電子行業(yè)中，它被用于微電子制造和集成電路清洗；在醫(yī)療行業(yè)中，它被用于殺菌和消毒；在化學工藝中，它被用于表面噴涂和材料改性；在環(huán)保治理中，它被用于廢水處理和氣態(tài)污染物處理。其利用等離子技術(shù)，既能達到有效、環(huán)保的處理效果，又不會對待處理物體造成損傷，成為一種非常有前途的清洗和改性的方法。
綜上所述，等離子處理設(shè)備通過產(chǎn)生等離子體反應生成活性氣體，實現(xiàn)對物體表面的清洗和改性。該技術(shù)已經(jīng)得到廣泛應用，在電子、醫(yī)療、化學、環(huán)保等領(lǐng)域都有著重要的作用。當今，等離子處理技術(shù)被廣泛應用于材料表面處理和改性方面。 它通常使用在氣體相反應室中產(chǎn)生的高溫、高能量電離氣體等離子體來處理物質(zhì)表面。 等離子體是一種由高能離子、原子和自由基組成的高度活躍的氣態(tài)。
等離子體產(chǎn)生的方式有許多種，包括電弧放電、RF放電、微波放電、脈沖放電等。不同類型的等離子發(fā)生器會影響到等離子鍋爐的工作效率和特征，這也是一個非常重要的問題。
而將等離子體應用于材料表面處理上，則可以通過等離子體的高能量作用于物質(zhì)表面來改變其化學和物理性質(zhì)，即所謂的等離子處理。等離子處理可以使物料表面結(jié)構(gòu)發(fā)生改變，進而提高其化學惰性、耐磨性、耐腐蝕性和界面附著性等性能。
等離子處理的機理主要來自于等離子體對表面的化學性質(zhì)和結(jié)構(gòu)具有顯著的影響。 高能量等離子體中存在大量自由基、激發(fā)態(tài)原子和離子，這些活性物質(zhì)能夠與材料表面上的化學成分進行反應，并導致表層物質(zhì)發(fā)生化學變化。
例如，氧離子在等離子處理中可以被用來氧化表面，從而使表面生成一定厚度的金屬氧化物。 與此同時，離子轟擊和沉積可以導致表層物質(zhì)生長、縮短撞擊而導致失蹤， 鈍化表面原子并提高界面深度和耐久性。 等離子處理還可激活材料表面，促進其吸附和潤濕性能。
值得注意的是，等離子處理后多久有效受到許多因素的影響，包括表面材料的種類和形狀、等離子體處理參數(shù)和條件、環(huán)境濕度、溫度等。在實踐中， 大多數(shù)等離子處理數(shù)據(jù)都是通過定期測試表面性能的總體變化來確定其有效時間。
近年來，隨著等離子處理技術(shù)的不斷發(fā)展和完善，已經(jīng)發(fā)展出了許多新型的等離子發(fā)生器和處理方法，如等離子共聚變（ICP）和微波氣體放電等離子體等。 這些新技術(shù)的應用，為以后改進、提高等離子處理效果和表面材料性能提供了重要方法。
總之，等離子處理是一種主要通過改變物料表面結(jié)構(gòu)、形態(tài)和化學組成來增強其性能的表面工藝方法。 實際運用中，等離子處理的有效時間受到多個因素的影響。 等離子技術(shù)的進步也將不斷完善等離子處理技術(shù)，并推動其更廣泛的應用。
