等離子清洗機(jī)在運(yùn)行的時(shí)候應(yīng)該要注意哪些事項(xiàng)呢？
1、正確設(shè)置等離子設(shè)備的運(yùn)行參數(shù),按時(shí)設(shè)備使用說(shuō)明書來(lái)執(zhí)行;
2、保護(hù)好等離子體的點(diǎn)火裝置,以確保等離子清洗機(jī)可以正常的啟動(dòng);
3、等離子設(shè)備在啟動(dòng)前的準(zhǔn)備工作,要對(duì)相關(guān)的人員進(jìn)行培訓(xùn),同時(shí)確保操作等離子清洗機(jī)的人員可以按照要求嚴(yán)格執(zhí)行各項(xiàng)操作;
4、在一次風(fēng)管沒(méi)有通風(fēng)的時(shí)候,等離子體的發(fā)生器運(yùn)行時(shí)間不能超過(guò)設(shè)備說(shuō)明書上面要求的時(shí)間,防止燒壞燃燒器,造成不必要的損失;
5、如果需要對(duì)等離子設(shè)備進(jìn)行維護(hù)時(shí)請(qǐng)將等離子發(fā)生器進(jìn)行斷電后再進(jìn)行相應(yīng)的操作。等離子處理設(shè)備工作原理
廢氣處理中洗滌系統(tǒng)用來(lái)和廢氣在洗滌塔內(nèi)進(jìn)行預(yù)處理化學(xué)反應(yīng)，去處粉塵且通過(guò)化學(xué)反應(yīng)后的氣體達(dá)到廢氣一級(jí)凈化處理，具體包括專用填料、噴淋裝置、脫水層、風(fēng)機(jī)、加藥系統(tǒng)等。
低溫等離子凈化器內(nèi)部裝有獨(dú)特的碰吸單元，截留去除廢氣中的顆粒物質(zhì)，廢氣收集系統(tǒng)收集的多元素氣體經(jīng)過(guò)等離子活性氧凈化裝置，在高壓等離子電場(chǎng)的作用下，電離初始態(tài)氧將其中的廢氣離子進(jìn)行電離荷電凈化，帶電的微小離子(塵埃粒子)被吸附單元所收集并流入和沉積到氣體處理裝置的儲(chǔ)塵箱內(nèi)，氣體內(nèi)的有害氣體被電場(chǎng)內(nèi)所產(chǎn)生的臭氧所殺菌，并去除了異味，有害氣體被除掉,達(dá)到廢氣處理的目的。
吸附催化凈化處理裝置是一種干式廢氣處理設(shè)備。由箱體和裝填在箱體內(nèi)的吸附單元組成，吸附單元根據(jù)廢氣處理要求添加催化劑達(dá)到進(jìn)一步去處異味氣體的目的?？刂葡到y(tǒng)主要用來(lái)控制系統(tǒng)開機(jī)、停運(yùn)，并對(duì)系統(tǒng)運(yùn)行效果進(jìn)行檢測(cè)，反饋。
等離子處理設(shè)備工藝流程
氣體收集系統(tǒng)—預(yù)處理噴淋洗滌系統(tǒng)—低溫等離子凈化系統(tǒng)—深度氣體吸附催化系統(tǒng)—排放系統(tǒng)—控制系統(tǒng)氣體收集系統(tǒng)主要是將構(gòu)筑物自由揮發(fā)的氣體收集起來(lái)并輸送到后續(xù)處理系統(tǒng)。具體包括氣罩系統(tǒng)、管道輸送系統(tǒng)和風(fēng)機(jī)。
電暈機(jī)表面處理和等離子表面處理的不同點(diǎn)：
1.等離子表面處理除了輝光放電外，還包括電伏放電，所產(chǎn)生的能量更強(qiáng)，能達(dá)到52達(dá)因以上的附著力，而電暈機(jī)一般只能達(dá)到32-36達(dá)因的附著力。
2.電暈機(jī)能處理寬幅并且附著力要求不是很高的材料，比如布匹，薄膜、塑料膜一類的東西。而等離子表面處理一般單噴頭處理的寬度僅為50mm，需要通過(guò)多個(gè)噴頭的組合能實(shí)現(xiàn)寬幅的處理。處理寬幅的時(shí)候成本會(huì)更高，但是處理效果好。
