等離子噴涂工藝流程
在等離子噴涂過程中，影響涂層質(zhì)量的工藝參數(shù)很多，主要有：
①等離子氣體：氣體的選擇原則主要根據(jù)是可用性和經(jīng)濟(jì)性，N2氣便宜，且離子焰熱焓高，傳熱快，利于粉末的加熱和熔化，但對(duì)于易發(fā)生氮化反應(yīng)的粉末或基體則不可采用。Ar氣電離電位較低，等離子弧穩(wěn)定且易于引燃，弧焰較短，適于小件或薄件的噴涂，此外Ar氣還有很好的保護(hù)作用，但Ar氣的熱焓低，價(jià)格昂貴。
氣體流量大小直接影響等離子焰流的熱焓和流速，從而影響噴涂效率，涂層氣孔率和結(jié)合力等。流量過高，則氣體會(huì)從等離子射流中帶走有用的熱，并使噴涂粒子的速度升高，減少了噴涂粒子在等離子火焰中的“滯留”時(shí)間，導(dǎo)致粒子達(dá)不到變形所必要的半熔化或塑性狀態(tài)，結(jié)果是涂層粘接強(qiáng)度、密度和硬度都較差，沉積速率也會(huì)顯著降低；相反，則會(huì)使電弧電壓值不適當(dāng)，并大大降低噴射粒子的速度。極端情況下，會(huì)引起噴涂材料過熱，造成噴涂材料過度熔化或汽化，引起熔融的粉末粒子在噴嘴或粉末噴口聚集，然后以較大球狀沉積到涂層中，形成大的空穴。
②電弧的功率：電弧功率太高，電弧溫度升高，更多的氣體將轉(zhuǎn)變成為等離子體，在大功率、低工作氣體流量的情況下，幾乎全部工作氣體都轉(zhuǎn)變?yōu)榛钚缘攘Ｗ恿?，等粒子火焰溫度也很高，這可能使一些噴涂材料氣化并引起涂層成分改變，噴涂材料的蒸汽在基體與涂層之間或涂層的疊層之間凝聚引起粘接不良。此外還可能使噴嘴和電極燒蝕。
而電弧功率太低，則得到部分離子氣體和溫度較低的等離子火焰，又會(huì)引起粒子加熱不足，涂層的粘結(jié)強(qiáng)度，硬度和沉積效率較低。
③供粉：供粉速度必須與輸入功率相適應(yīng)，過大，會(huì)出現(xiàn)生粉（未熔化），導(dǎo)致噴涂效率降低；過低，粉末氧化嚴(yán)重，并造成基體過熱。
送料位置也會(huì)影響涂層結(jié)構(gòu)和噴涂效率，一般來說，粉末必須送至焰心才能使粉末獲得好的加熱和高的速度。
④噴涂距離和噴涂角：噴槍到工件的距離影響噴涂粒子和基體撞擊時(shí)的速度和溫度，涂層的特征和噴涂材料對(duì)噴涂距離很敏感。
噴涂距離過大，粉粒的溫度和速度均將下降，結(jié)合力、氣孔、噴涂效率都會(huì)明顯下降；過小，會(huì)使基體溫升過高，基體和涂層氧化，影響涂層的結(jié)合。在機(jī)體溫升允許的情況下，噴距適當(dāng)小些為好。
噴涂角：指的是焰流軸線與被噴涂工件表面之間的角度。該角小于45度時(shí)，由于“陰影效應(yīng)”的影響，涂層結(jié)構(gòu)會(huì)惡化形成空穴，導(dǎo)致涂層疏松。
⑤噴槍與工件的相對(duì)運(yùn)動(dòng)速度
噴槍的移動(dòng)速度應(yīng)保證涂層平坦，不出線噴涂脊背的痕跡。也就是說，每個(gè)行程的寬度之間應(yīng)充分搭疊，在滿足上述要求前提下，噴涂操作時(shí)，一般采用較高的噴槍移動(dòng)速度，這樣可防止產(chǎn)生局部熱點(diǎn)和表面氧化。
⑥基體溫度控制
較理想的噴涂工件是在噴涂前把工件預(yù)熱到噴涂過程要達(dá)到的溫度，然后在噴涂過程中對(duì)工件采用噴氣冷卻的措施，使其保持原來的溫度。關(guān)于等離子表面處理機(jī)在表面發(fā)生的反應(yīng)，需要先了解等離子體的概念。等離子體是一種高能量的物質(zhì)狀態(tài)，由帶正電荷的離子和帶負(fù)電荷的電子組成。等離子體可以通過加熱、電離、激光等方式產(chǎn)生，具有高能量、高速度、高溫度等特點(diǎn)，可以對(duì)表面進(jìn)行處理。
等離子表面處理機(jī)利用等離子體對(duì)表面進(jìn)行處理，主要包括以下幾種反應(yīng)：
1.離子轟擊反應(yīng)：等離子體中的離子具有高能量，可以對(duì)表面進(jìn)行轟擊，使表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng)。例如，氮離子轟擊金屬表面可以形成氮化物層，提高金屬的硬度和耐磨性。
2.化學(xué)反應(yīng)：等離子體中的離子和分子可以與表面的原子或分子發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，形成新的化合物。例如，氧離子可以與金屬表面的氧化物反應(yīng)，形成金屬氧化物層，提高金屬的耐腐蝕性。
3.氧化還原反應(yīng)：等離子體中的離子和分子可以與表面的原子或分子發(fā)生氧化還原反應(yīng)，改變表面的化學(xué)性質(zhì)。例如，氧離子可以將金屬表面的氧化物還原成金屬，提高金屬的導(dǎo)電性和導(dǎo)熱性。
4.晶格缺陷修復(fù)：等離子體中的離子和分子可以填補(bǔ)表面的晶格缺陷，提高表面的結(jié)晶度和機(jī)械性能。例如，氮離子可以填補(bǔ)金屬表面的晶格缺陷，提高金屬的強(qiáng)度和韌性。
以上是等離子表面處理機(jī)在表面發(fā)生的一些常見反應(yīng)，不同的反應(yīng)會(huì)對(duì)表面產(chǎn)生不同的影響。在使用等離子表面處理機(jī)時(shí)，需要根據(jù)具體的材料和處理要求選擇合適的處理參數(shù)和反應(yīng)方式，以達(dá)到佳的處理效果。等離子設(shè)備是一種高科技設(shè)備，它在工業(yè)上的應(yīng)用已經(jīng)遙遙領(lǐng)先。等離子設(shè)備的主要作用是將氣體或液體轉(zhuǎn)化為等離子體，這種等離子體可以用于各種工業(yè)應(yīng)用，如表面處理、材料加工、醫(yī)療、環(huán)保等領(lǐng)域。本文將詳細(xì)介紹等離子設(shè)備在工業(yè)上的優(yōu)勢和應(yīng)用。
一、等離子設(shè)備的優(yōu)勢
能：等離子設(shè)備可以在短時(shí)間內(nèi)將氣體或液體轉(zhuǎn)化為等離子體，這種等離子體可以用于各種工業(yè)應(yīng)用，如表面處理、材料加工、醫(yī)療、環(huán)保等領(lǐng)域。等離子體的高能量和高溫度可以使其在短時(shí)間內(nèi)完成各種工業(yè)加工任務(wù)，從而提高生產(chǎn)效率。
精度高：等離子設(shè)備可以精確控制等離子體的溫度、密度、成分等參數(shù)，從而實(shí)現(xiàn)對(duì)材料的精確加工和表面處理。這種精確控制可以使得等離子體在加工過程中不會(huì)對(duì)材料造成過多的損傷，從而保證了加工質(zhì)量和產(chǎn)品的穩(wěn)定性。
環(huán)保節(jié)能：等離子設(shè)備可以在不使用化學(xué)藥品的情況下完成表面處理和材料加工任務(wù)，從而減少了對(duì)環(huán)境的污染。此外，等離子設(shè)備的能耗也比傳統(tǒng)的加工設(shè)備低，從而節(jié)約了能源和成本。
二、等離子設(shè)備的應(yīng)用
表面處理：等離子設(shè)備可以用于表面處理，如清洗、去污、除油、除氧化層等。等離子體的高能量和高溫度可以使其在短時(shí)間內(nèi)完成表面處理任務(wù)，從而提高了生產(chǎn)效率和產(chǎn)品質(zhì)量。
材料加工：等離子設(shè)備可以用于材料加工，如切割、焊接、打孔、雕刻等。等離子體的高能量和高溫度可以使其在短時(shí)間內(nèi)完成材料加工任務(wù)，從而提高了生產(chǎn)效率和產(chǎn)品質(zhì)量。
醫(yī)療：等離子設(shè)備可以用于醫(yī)療領(lǐng)域，如治療皮膚病、癌癥、糖尿病等。等離子體可以殺死細(xì)菌和病毒，從而達(dá)到治療的效果。
環(huán)保：等離子設(shè)備可以用于環(huán)保領(lǐng)域，如凈化空氣、凈化水質(zhì)等。等離子體可以分解有害物質(zhì)，從而凈化環(huán)境。
總之，等離子設(shè)備在工業(yè)上的應(yīng)用已經(jīng)遙遙領(lǐng)先，其能、精度高、環(huán)保節(jié)能等優(yōu)勢使得其在各個(gè)領(lǐng)域都有廣泛的應(yīng)用。未來，隨著科技的不斷發(fā)展，等離子設(shè)備的應(yīng)用領(lǐng)域?qū)?huì)更加廣泛，為人類的生產(chǎn)和生活帶來更多的便利和效益。
